Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой
книга

Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой

Автор: Евгений Берлин, Николай Коваль, Лев Сейдман

Форматы: PDF

Издательство: Инфра-Инженерия

Год: 2021

Место издания: Москва|Вологда

ISBN: 978-5-9729-0639-0

Страниц: 468

Артикул: 89624

Возрастная маркировка: 16+

Электронная книга
1790

Краткая аннотация книги "Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой"

Предложены теоретические основы и раскрыты методы плазменной химико-термической обработки поверхности стальных деталей. Представлены виды необходимого оборудования и принципы его конструирования для достижения высокой производительности, воспроизводимости и однородности обработки. Рассмотрены варианты плазменной химико-термической обработки деталей, показаны перспективы развития данной технологии. Для специалистов, занимающихся совершенствованием технологии изготовления и упрочнения стальных деталей, а также производителей оборудования для химико-термической обработки. Издание может быть полезно студентам, аспирантам и преподавателям машиностроительных направлений подготовки.

Содержание книги "Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой"


ВВЕДЕНИЕ
ГЛАВА 1. ОСНОВЫ ТЕХНОЛОГИИ ПЛАЗМЕННОГО АЗОТИРОВАНИЯ
1.1. Основные фазы и фазовые превращения в системе железо–азот
1.2. Основные фазы и фазовые превращения при азотировании
ГЛАВА 2. ВЛИЯНИЕ ПАРАМЕТРОВ ПРОЦЕССА ОБРАБОТКИ НА РЕЗУЛЬТАТЫ ПЛАЗМЕННОГО АЗОТИРОВАНИЯ
2.1 Влияние состава газовой смеси
2.1.1 Роль кислорода в реакторе
2.1.2. Влияние добавки водорода
2.1.3. Влияние добавки аргона
2.2. Влияние температуры процесса
2.3. Влияние длительности процесса
2.4. Влияние рабочего давления газовой смеси
2.5. Влияние энергии и плотности тока ионов азота
ГЛАВА 3. ВЛИЯНИЕ ПОДГОТОВКИ ПОВЕРХНОСТИ СТАЛЬНЫХ ДЕТАЛЕЙ К ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКЕ
3.1. Подготовка деталей после их изготовления до загрузки в реактор для последующего азотирования
3.1.1. Влияние шероховатости
3.1.2. Обработка деформацией
3.1.3. Дробеструйная (пескоструйная) обработка
3.1.4. Предварительная термообработка
3.2. Очистка поверхности деталей в реакторе непосредственно перед плазменной химико-термической обработкой
ГЛАВА 4. УСТРОЙСТВА, ПРИМЕНЯЕМЫЕ ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ
4.1 Способы нагрева деталей для плазменной химико-термической обработки
4.2. Устройства, создающие плазму в плазменных реакторах для химико-термической обработки
4.2.1. Ионно-лучевое азотирование
4.2.2. Реакторы с тлеющим разрядом
4.2.3 Реакторы, использующие эффект полого катода
4.2.4. ВЧ-источники плазмы
4.2.5. СВЧ-источники плазмы
4.2.6 Реакторы с накаливаемым катодом
4.2.7. Реакторы на основе вакуумно-дугового разряда с накаливаемым катодом
4.2.8. Реакторы с разделением объемов возбуждения плазмы и обработки детали
4.2.9. Реакторы с возбуждением плазмы электронным пучком
4.2.10. Классификация реакторов по виду подаваемого на детали напряжения смещения
4.3. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация и ее применение в гибридных процессах химико-термической обработки
4.3.1. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация
4.3.2. Гибридный процесс, состоящий из ПИИИ-процесса и обычного плазменного азотирования
4.3.3. Плазменно-иммерсионная ионная имплантация и нанесение слоя из ионов
4.4. Сравнение различных способов азотирования между собой
4.5. Азотирование при поверхностном нагреве деталей
4.5.1. Низкотемпературное азотирование с последующим импульсным нагревом ионами аргона
4.5.2. Применение для азотирования импульсных электронных пучков
4.6. Некоторые способы повышения производительности процесса обработки
4.7. Выводы из главы 4
ГЛАВА 5. СПОСОБЫ ДОСТИЖЕНИЯ РАВНОМЕРНОГО АЗОТИРОВАНИЯ ДЕТАЛЕЙ СЛОЖНОЙ ФОРМЫ
5.1 Азотирование протяженных деталей
5.2. Азотирование деталей сложной формы
5.2.1. Эффект кромки
5.2.2. Эффект полого катода
5.3. Достижение равномерности азотирования с помощью активного экрана
5.3.1. Одинарный активный экран
5.3.2. Двухслойный активный экран
ГЛАВА 6. ДРУГИЕ ВИДЫ ПЛАЗМЕННОЙ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ СТАЛЕЙ
6.1 Карбонизация и карбоазотирование
6.1.1. Карбонизация
6.1.2. Карбоазотирование
6.1.3. Сравнение результатов азотирования, карбонизации и карбоазотирования
6.1.4. Комбинированные процессы, состоящие из азотирования и карбонизации
6.2. Оксидирование и оксиазотирование
6.3. Сульфатирование и сульфоазотирование
6.4. Кадмирование
ГЛАВА 7. ОСОБЕННОСТИ (ПРИМЕРЫ) ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ РАЗЛИЧНЫХ ТИПОВ СТАЛЕЙ
7.1. Влияние концентрации легирующих элементов в различных сталях
7.1.1. Низкоуглеродистые стали
7.1.2. Углеродистые стали
7.1.3 Нержавеющие стали
7.2. Влияние кристаллической структуры различных нержавеющих сталей на результаты химико-термической обработки
7.2.1. Ферритные по структуре стали
7.2.2. Аустенитные стали
7.2.3. Мартенситные стали
7.2.4. Упрочненные преципитацией стали
ГЛАВА 8. ВЛИЯНИЕ ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЙ ПЛАЗМЕННОЙ ХИМИКО-ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ СТАЛЬНЫХ ДЕТАЛЕЙ НА СВОЙСТВА НАНОСИМЫХ НА НИХ УПРОЧНЯЮЩИХ ИЛИ ЗАЩИТНЫХ ПОКРЫТИЙ
8.1. Однослойные покрытия
8.2. Многослойные покрытия
8.3. Многослойные градиентные покрытия
ПРИЛОЖЕНИЕ 1
ПРИЛОЖЕНИЕ 2
ЛИТЕРАТУРА

Все отзывы о книге Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой

Чтобы оставить отзыв, зарегистрируйтесь или войдите

Отрывок из книги Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой

18 Глава. КолонтитулГлава 2. Влияние параметров процесса обработкина результаты плазменного азотированияностная микрошероховатость, как правило, была меньше 3 нм. Затем их отмывали с помощью ультразвука в этиловом спирте. Уже в реакторах образцы нагревали до 400 °C в смеси Ar и H2 при давлении 0,4 Па. Температуру обрабатываемой детали контролирова-ли термопарами. Затем образцы очищали в плазме разряда в водородно-аргонной смеси 50:50, с напряжением отрицательного смещения -250 В. Эта процедура привела к повы-шенной воспроизводимости наблюдений, по-видимому, из-за снижения толщины ок-сидного слоя на поверхности образцов. Далее их азотировали в плазме N2 при давлении 0.4 Па в течение 3 часов при 400 °C. Охлаждались образцы в откачанном реакторе.Первоначальные эксперименты по азотированию при низком давлении в ВЧ-плазме были выполнены в установке Mark 1 PI3, разработаной Australian Nuclear Science and Technology Organisation (ANSTO). Плазма низкого давления генерировалась ВЧ мощ-ностью 300 Вт, которая подводилась к ВЧ-антенне, расположенной в верхнем крае ре-актора длиной 950 мм и диаметром 750 мм. В нижней половине реактора были установ-лены обрабатываемые образцы на электрически изолированном держателе, на который могло быть подано отрицательное электрическое смещение. Нагревательный элемент был установлен ниже держателя так, чтобы температурой обрабатываемой детали мож-но было управлять независимо от режима ионной бомбардировки.Для обработки объемных деталей неправильной формы авторы разработали спе-циальную установку с реактором с нагреваемыми стенками (рис. 2.6). Благодаря те-пловому излучению от горячих стенок реактора однородная температура устанавлива-ется в объеме реактора диаметром 400 мм и длиной 450 мм. Ряд экранов ограничивает тепловые потери на краях рабочего пространства. ВЧ антенна располагается наверху камеры, как показано на рис. 2.6, и обрабатываемые детали размещены на электриче-ски изолированном держателе внизу горячей зоны. На держатель могло б...