Читать фрагмент

книга

Эмиссионный спектральный анализ

Автор: Евгений Марукович, Анатолий Непокойчицкий

Представлены результаты исследований закономерностей поступления вещества в плазму разряда применительно к требованиям совершенствования спектрального анализа. Рассмотрены образцы приборов и специальные изделия для сокращения времени пробоподготовки и анализа. На примерах показана перспективность применения средств вычислительной техники для получения спектральной информации и обработки результатов. Большое внимание уделено разработке новых и совершенствованию известных методик контроля толщины и элементного состава различных видов покрытий, контроля микроколичеств элементов в пробах.Рекомендована для инженерно-технических работников предприятий, сотрудников НИИ, а также в качестве учебно-методического пособия для студентов соответствующих специальностей.

Форматы: PDF

Издательство: Белорусская наука

Год: 2013

Место издания: Минск

ISBN: 978-985-08-1613-9

Страниц: 308

Артикул: 41716

Электронная книга

473 ₽

Купить и скачать

Содержание

Содержание книги "Эмиссионный спектральный анализ "

Предисловие

Глава 1. Некоторые возможности повышения точности и чувствительности эмиссионного спектрального анализа

1.1. Метод количественного эмиссионного спектрального анализа по измерениям максимальной интенсивности спектральных линий в процессе выгорания вещества

1.2. О связи процессов выгорания дозированного количества вещества и обжига при спектральном анализе

1.3. Исследование взаимных влияний элементов при спектральном анализе кремнистых латуней

1.4. О механизме поступления вещества в плазму разряда в источниках света при спектральном анализе металлических образцов (заготовок)

1.5. Оптимальные градуировочные характеристики для снижения погрешности результатов спектрального анализа

Глава 2. Приборы для эмиссионного спектрального анализа

2.1. Источники атомизации и возбуждения спектров ИВС-23, ИВС-28, ИВС-29, УГЭ-4

2.2. Источники света специального назначения

2.3. Оптические приборы для эмиссионного спектрального анализа

2.4. Установки для эмиссионного спектрального анализа

2.5. Проекционные и измерительные приборы

Глава 3. Специальные изделия и методы повышения экспрессности и точности спектрального анализа

3.1. Штативы

3.2. Приставки к штативам для контроля толщины и элементного состава покрытий на продолговатых изделиях

3.3. Приспособления для формообразования торцов электродов при спектральном анализе

3.4. Подготовка проб ограниченной массы к эмиссионному спектральному анализу

3.5. Способы локализации электрического разряда и лазерного излучения в эмиссионном спектральном анализе

Глава 4. Экспериментальные исследования процесса поступления дозированных проб в плазму разряда в электрических источниках света для спектрального анализа

4.1. Некоторые закономерности выгорания ограниченной массы вещества под действием электрических разрядов

4.2. Исследование закономерностей поступления вещества по изменению интенсивности спектральных линий

4.3. Влияние электрического режима источника света и других условий на процесс выгорания дозированного вещества

4.4. Исследование одновременного поступления смеси химических элементов в плазму разряда

4.5. Влияние щелочных металлов на интенсивность спектральных линий

Глава 5. Спектральный анализ покрытий и послойного распределения элементов при воздействии электроразрядной плазмы

5.1. Экспресс-контроль толщины металлических покрытий

5.2. Контроль толщины хромовых и никелевых покрытий

5.3. Применение низковольтной скользящей искры для анализа тонких нихромовых пленок

5.4. Спектральное определение состава наплавок, покрытий и напылений в широком диапазоне концентраций элементов

5.5. Электроэрозионная резка металлических покрытий на диэлектрических подложках и спектральный контроль их толщины

5.6. Контроль композиционных покрытий на основе карбида титана

5.7. Химико-спектральный микроанализ тонких титановых покрытий

5.8. Спектральный контроль толщины покрытий из нитрида титана и циркония

5.9. Спектральный контроль покрытий из нитрида титана на зубных протезах

5.10. Спектральный контроль толщины латунных покрытий на металлокорде и серебряных на меди

5.11. Спектрографическое определение компонентов тонких металлических пленок систем Fe–Ni, Fe–Ni–Zn, Fe–Mn–Cu, Fe–Ni–Zn–Co на металлических подложках

5.12. Спектральное определение толщины покрытий из золота и серебра на латуни, никелевых и медных на стали по максимальной интенсивности спектральных линий

5.13. Определение толщины цинковых покрытий на стали

5.14. Спектральный контроль толщины многослойных покрытий с помощью стилоскопа

5.15. Спектральный метод определения толщины гальванических покрытий

5.16. Микроанализ покрытий на керамике

5.17. Послойный анализ поверхностной зоны окисления титанового сплава

5.18. Прямой спектральный анализ полупроводниковых слоев

5.19. Послойный спектральный анализ в разряде с полым катодом

5.20. Послойный атомно-эмиссионный спектральный анализ в источниках света с катодным распылением проб

5.21. Анализ послойного распределения элементов в зоне коррозионного повреждения Ti–Al-сплава методом атомно-эмиссионной спектроскопии с охлаждаемым полным катодом

5.22. Контроль толщины тонких покрытий на протяженных образцах методом атомного эмиссионного спектрального анализа

Глава 6. Анализ покрытий методом воздействия лазерного излучения

6.1. О возможности применения лазера для контроля покрытий

6.2. Определение толщины покрытий по спектрам вспышки при взаимодействии лазерного излучения с веществом

6.3. Определение толщины гальванических покрытий по разрушению их лазерным излучением

6.4. Лазерно-электроразрядный способ определения толщины металлических покрытий

6.5. Разрушение металлических фольг излучением ОКГ

6.6. Некоторые особенности сквозного лазерного пробоя тонких пластинок

6.7. Высокоадгезионные металлические покрытия на алюмооксидной керамике

6.8. Применение фотоэлектрического стилометра для определения толщины декоративно-защитных покрытий

6.9. Особенности разрушения лазерным излучением медных образцов с оксидными и металлическими покрытиями

6.10. Разрушение слоистых оксидно-металлических материалов импульсным лазерным излучением

6.11. Применение эмиссионного спектрального анализа для исследования глубины модификации алюмоокисной керамики окисью ванадия

6.12. Ультразвуковое стимулирование эрозионных процессов в лазерном источнике возбуждения спектров

6.13. Применение генератора униполярных разрядов при лазерном микроанализе сталей и покрытий

6.14. Контроль толщины покрытий при комбинированном лазерно-плазменном воздействии

6.15. Применение магнитного поля при локальном анализе сталей с использованием лазерного пробоотбора

6.16. Плазмохимическая металлизация ферритов и контроль качества покрытий

6.17. Способ предварительного отбора пробы с керамических материалов для их эмиссионного спектрального анализа

6.18. Получение антифрикционных покрытий и их контроль методом спектрального анализа

Глава 7. Примеры применения спектрального анализа для контроля микроколичеств вещества в различных областях науки и техники

7.1. Металловедение и металлургия

7.2. Биология, медицина

7.3. Криминалистика

7.4. Почва, вода, удобрения

7.5. Масла, стекла

7.6. Техника безопасности при проведении эмиссионного спектрального анализа

Литература

Отрывок из книги

23(или логарифмом содержания) контролируемого элемента [6–10]. Следует отметить, что при реализации алгоритма определения оптимальной градуировочной характеристики для обеспечения взаимно однозначного соответствия между интенсивностью аналитической линии и концентрацией элемента необходимо проверять монотонность изменения используемой функции в за-данном диапазоне. На основании классического принципа построения эмпири-ческих функциональных зависимостей необходимо из допусти-мого множества функций выбрать такую, которая наилучшим образом приближается к совокупности эмпирических данных. Такой способ подразумевает возможность использования доста-точно широкого спектра как меры приближения построенной градуировочной характеристики к исходным данным, так и ма-тематической модели самой характеристики. Любую непрерыв-ную функцию можно приблизить полиномом и, следовательно, при построении эмпирических градуировочных характеристик использовать полиномиальные градуировочные модели.В данном случае наиболее эффективно используется метод наименьших квадратов и полиномиальные математические модели.Таким образом, градуировочную характеристику ПАК мож-но представить в виде полинома степени m: y = a0 + a1x + a2x2 +...+ amxm, (1.6)где у – логарифм интенсивности линии; х – логарифм содержа-ния элемента; а1 – коэффициент регрессии.Коэффициенты регрессии aί удобно определять способом ортогонализации Чебышева. Выражение (1.6) при этом заменя-ется линейной комбинацией ортогональных многочленов Чебы-шева в виде [7] y = b0P0(x) + b1P1(x) + b2P2(x) ...+ bnPn(x). (1.7)Здесь ортогональные полиномы 0( )jkjkjkP xa x==∑ должны удов-летворять условию 1( ) ( ) 0ni iijiiP x P x=w=∑ при l ± j, wi – известные веса измерений, j = 1, 2, ..., n.

Внимание!
При обнаружении неточностей или ошибок в описании книги "Эмиссионный спектральный анализ (автор Евгений Марукович, Анатолий Непокойчицкий)", просим Вас отправить сообщение на почту help@directmedia.ru. Благодарим!

Эмиссионный спектральный анализ

Содержание

Отрывок из книги

Марукович Е. И. другие книги автора

С книгой "Эмиссионный спектральный анализ" читают