Указания к производству полевых почвенных исследований. Сообщение 25

24Для изм ренія крутизны склоновъ весьма удобенъ нормальныйэклиметръ Брандиса (см. въ конц „Указаны" списокъ приборовъ,необходимыхъ для почв, изсл д.), который позволяетъ опред лятьуголъ наклона поверхости съ точностью до 0,5°.По степени крутизны склоны можно подраздлить на4главныхъкатегоріи: г) пологіе (0°—5°), покатые (5°—20°), крутые (20°—45°) и обрывистые (45°), которые въ свою очередь можно длить на бол емелкія подразд ленія: слабо-пологіе (0°—3°), пологіе (3°—5°), слабо-покатые (5° -10°), покатые (10°—15°) и т. д. Переломъ отъ плато къпокатому склону обозначаютъ названіемъ „лобъ".d) И зучен іе полож енія почв ы по отн ош ен ію к ъ рел ьеф у.Изсл дованіе и изученіе рельефа м стности при почвенныхъизсл дованіяхъ иметъ ближайшей цлью получить матеріалъ дляуясненія генетнческихъ условій образованія почвы и для учета влія-нія положенія почвы относительно рельефа на ея особенности, такъкакъ топографическія условія залеганія почвы, какъ-то: высота еязалеганія на склон, на водоразд льномъ плато, на 1-й или 2 й террас, въ долин р ки, въ слабомъ понижены и т. д., существенносказываются на особенностяхъ почвы.Д ло въ томъ, что въ зависимости отъ разнагодюложенія почвыотносительно рельефа р зко м няются и условія почвообразованіянапр.: условія притока грунтовыхъ водъ, интенсивность смываніяпочвы или намыванія на нее посторонняго матеріала стекающими во-дами и т. д.Положеніе почвы относительно рельефа непосредственно не вліяетъсколько-нибудь существенно на почвообразовательный процессъ, ноставить почву въ особыя условія относительно ц лаго ряда другихъфакторовъ почвообразованія, какъ-то: метеорологическихъ условій, рас-тительности, приноса веществъ, смыванія почвы и пр., вліяніе кото-рыхъ въ почвообразовательныхъ процессахъ часто сказывается осо-бенно р зко. Бэле подробно о вліяніи такихъ факторовъ, какъ при-носъ и выносъ веществъ, см. главу „Приносъ къ почв и выносъ изънея различныхъ веществъ"... стр. 12.5. Условія вліяю щ ія н а увлаж неніе почвы (водны й реж и ...