Нанотехнологии в электронике

Содержание книги "Нанотехнологии в электронике"

Введение
Глава 1. Резонансно-туннельные гетероструктуры: физика и приборные применения
1.1. Особенности одномерной задачи рассеяния и новые типы резонансов в полупроводниковых наногетероструктурах
1.2. Коллапс резонансов в резонансно-туннельных гетероструктурах
1.3. Моделирование динамических характеристик резонанснотуннельных гетероструктур на основе численного решения нестационарного уравнения Шредингера
1.4. Резонансно-туннельные диоды и интегральные схемы на их основе
Литература
Глава 2. Электрофизические характеристики неоднородных диэлектриков микро- и наноэлектроники
2.1. Электрофизические характеристики диэлектриков
2.2. Методы описания свойств неоднородных диэлектриков
2.3. Частотная дисперсия эффективных диэлектрических характеристик
2.4. Эффективные характеристики диэлектрических наноструктур
Литература
Глава 3. Моделирование элементов интегральной наноэлектроники
3.1. Наноразмерные транзисторы в КМОП ИС
3.2. Модели наноразмерных МДП-транзисторов с непланарным затвором
3.3. Тепловые эффекты в тонкопленочных транзисторных структурах
3.4. Моделирование интегральных наноструктур в среде TCAD
Авторы
Литература
Глава 4. Размерный эффект плавления в пленочных структурах наноэлектроники
4.1. Физико-химическое обоснование размерного эффекта плавления тонкой пленки
4.2. Размерный эффект плавления в алюми ниевой металлизации интегральных схем
4.3. Размерный эффект плавления в медной металлизации интегральных схем
4.4. Использование размерного эффекта плавления тонкой пленки для заполнения медью узких траншей в технологии damascene
4.5. Использование размерного эффекта плавления тонкой пленки для формирования массива нанокластеров
4.6. Использование размерного эффекта плавления тонкой пленки для сращивания подложек
Автор
Литература
Глава 5. Исследование наноразмерных областей методами просвечивающей электронной микроскопии
5.1. Основы электронной микроскопии
5.2. Дифракция электронов и электронно-микроскопический контраст
5.3. Идентификация структуры аморфного материала вблизи границы с кристаллом
5.4. Электронная микроскопия пироуглеродных материалов
Литература
Глава 6. Рентгеновские методы исследования наноструктур и нанообъектов электроники
Введение
6.1. Современные задачи рентгеновской метрологии в микро- и наноэлектронной технологии
6.2. Основные конструктивные и исследова тельские возможности современного многофункционального рентгеновского исследовательского оборудования
6.3. Двухволновая относительная рентгеновская рефлектометрия скользящего падения
6.4. Дифракция и малоугловое рассеяние рентгеновских лучей
6.5. Повышение эффективности решения обратных рентгеновских задач при использовании параллельных вычислений на графических процессорах
6.6. Организация удаленного массового доступа к уникальному рентгеновскому оборудованию, сопряженному с виртуальной обучающей системой
Заключение
Авторы
Литература
Глава 7. Наноструктуры на основе метода локального зондового окисления
7.1. Метод локального зондового окисления
7.2. Физико-химическая модель процесса локаль ного зондового окисления, учитывающая приборное ограничение величины тока
7.3. Исследование влияния конструктивных параметров проводящих кантилеверов на параметры процесса локального зондового окисления
7.4. Исследование влияния фотоактивации на кинетику локального зондового окисления
Авторы
Литература
Глава 8. Плазменные методы создания наноструктур
Введение
8.1. Применение технологии плазменного травления для формирования наноразмерных элементов
8.2. Современные методы формирования функци ональных слоев наноструктур с приме нением низкотемпературной газовой плазмы
8.3. Перспективы развития плазменной технологии
Авторы
Литература
Глава 9. Наноструктурированные оксиды металлов в технологии устройств функциональной электроники
9.1. Пористый анодный оксид алюминия
9.2. Наноструктурированный оксид титана
9.3. Нанокристаллический оксид цинка
Авторы
Литература
Глава 10. Функциональные некристаллические покрытия для микро- и наноэлектроники
10.1. Технологии получения некристаллических материалов
10.2. Импульсное осаждение дуговой электроэрозионной плазмы
10.3. Морфология поверхности
10.4. Применение функциональных некристаллических покрытий
Литература
Глава 11. Лазерный метод создания био совместимых композиционных наноматериалов с углеродными нанотрубками
11.1. Технология получения биосовместимых объемных композиционных наноматериалов с углеродными нанотрубками
11.2. Механические свойства композиционных наноматериалов
11.3. Электропроводящие свойства композиционных наноматериалов
11.4. Лазерная сварка композиционных наноматериалов
11.5. Биосовместимость композиционных наноматериалов. Рост клеточных структур на матриксе из композиционных наноматериалов
Авторы
Литература
Глава 12. Микро- и нано электромеханические системы и устройства
12.1. Разработка преобразователей линейного ускорения
12.2. Разработка преобразователей угловой скорости
12.3. Разработка микромеханического зеркала на основе балочного микроактюатора
Литература
Глава 13. Элементы наноэлектроники на основе высокотемпературного сверхпроводника состава (Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3O10
13.1. Свойства сверхпроводника состава (Bi,Pb) SrCaCuO. Внутренний эффект Джозеф сона в сверхпроводниках на основе висмута
13.2. Технология получения тонких слоев высокотемпературного сверхпроводника состава (Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3O10
13.3. Технология изготовления и свойства магниточувствительных структур
13.4. Приемники электромагнитного излучения инфракрасной области спектра
13.5. Перспективные электронные приборы
Литература
Глава 14. Магниторезистивные структуры в устройствах наноэлектроники и микросистемной техники
14.1. Физические процессы в магниторезистивных структурах
14.2. Материалы, методы формирования и электрофизические свойства магниторезистивных структур
14.3. Применение магниторезистивных структур
Авторы
Литература
Глава 15. Кремниевые биполярные гетероструктуры и проектирование СВЧ интегральных схем на их основе
15.1. СВЧ гетероперходная полупроводниковая элементная база
15.2. Состояние и перспективы технологии кремниевых гетеропереходных биполярных транзисторов для СВЧ-применений
15.3. Особенности проектирования СВЧ интегральных устройств с использованием гетеропереходных транзисторов
15.4. Защита интегральных SiGe БиКМОП-микросхем от электростатического напряжения
15.5. Проектирование CML масштабируемой библиотеки
15.6. Примеры проектирования СВЧ ИМС на гетероперходных биполярных транзисторах с SiGe-базой для сверхскоростных систем передачи данных
Литература